반도체 8대 공정/1. Wafer3 1. 반도체 Wafer 공정) 실리콘이 반도체로 쓰이는 이유, 왜 P, B, As가 Si의 도핑 소스로 사용될까? 모래에서 Si Wafer로 만들어 봤습니다. 만드는 과정은 다음과 같았죠. 1. 모래에 매우 큰 열을 가하여 Si 가스를 만들었습니다. 2. Si 가스를 정제시키고, 이 가스를 지멘스 방법을 이용하여 고순도 다결정 Poly Si를 제작하였습니다. 3. 고순도 다결정 Poly Si를 다시 녹여, 쵸크랄스키 방법으로 고순도 단결정 Si Ingot을 제작하였습니다. 4. Si Ingot을 다이아몬드 칼로 Slicing 하여 7mm 정도의 얇은 Si Wafer가 탄생합니다. 위 Si Wafer을 가공하고 또 가공하여 Transistor, RAM, NAND 소자를 만듭니다. 위 과정을 까먹으셨거나 잘 모르신다면, 바로 아래 두 링크를 참고해 주세요. 2022.10.10 - [반도체 공학/1. Wafer] - 0... 2023. 1. 10. 1. 반도체 Wafer 공정 (feat. 쵸크랄스키 방법) 저번 포스팅에서는 '모래'에서 '고순도 다결정 실리콘'이 되는 과정을 설명하였습니다. 요약을 해 드리자면 다음과 같습니다. 모래는 아크 방전로에서 탄소와 반응하여 '실리콘'을 형성시키고, 실리콘을 가스화 공정을 통해 '실란 가스'로 기체화 시킵니다. 실란 가스를 화학 공장에서 '증류 방법'으로 정제를 하여 고순도 기체 실란 가스를 만듭니다. 그 후, 지멘스 방법으로 고순도 다결정 고체 실리콘을 만듭니다. 2022.10.10 - [전자공학/반도체 공정] - 고순도 실리콘의 탄생 (feat. 지멘스 방법) 고순도 실리콘의 탄생 (feat. 지멘스 방법) 고순도 실리콘의 탄생 면접관 : '모래에서 고순도 Si로 어떻게 바뀌는지 혹시 설명해주실 수 있으실까요?' A : '쵸크라스키 방법, Zone refinin.. 2022. 10. 11. 0. 반도체 공정 Intro, 고순도 실리콘의 탄생 (feat. 지멘스 방법) 고순도 실리콘의 탄생 면접관 : '모래에서 고순도 다결정 Si로 어떻게 바뀌는지 혹시 설명해 주실 수 있으실까요?' A : '쵸크라스키 방법, Zone refining 방법으로 고순도 Si가 바뀌어집니다.' 면접관 : '아니요, 그건 단결정 ingot을 만드는 과정이고요. 그 전 과정이요.' A :?? 이 면접은 실제로 있었던 면접 질문이었습니다. 액체 상태의 고순도 poly 실리콘을 쵸크라스키 방법을 이용하여 고순도 단결정 Si ingot을 만드는 과정은 쵸크라스키, Float zone 방법입니다. 이 이론까지 대학에서 배웁니다. 하지만, 액체 상태의 고순도 poly 실리콘을 만드는 방법에 대해서 들어보신 적이 있나요? 현재 쓰이는 반도체급 실리콘은 다음과 같은 과정으로 만들어집니다. Silica > .. 2022. 10. 10. 이전 1 다음 반응형
