반도체 8대 공정/3. Photo2 3-1 포토 공정 ) 포토 공정 변수, 해상도 개선 방법, printing 방법 포토 공정 변수 포토 공정 변수는 다음과 같습니다. 1. 해상도(분해능) PR에 높은 적합성을 전사할 수 있는 최소 특성 치수(패턴 크기)입니다. 즉 쉽게 말해 '얼마나 작게 그릴 수 있냐?'입니다. 해상도 값은 작을수록 좋습니다. 2. 정합 이전에 정의된 패턴에 대하여 정렬되거나 겹쳐질 수 있는 연속된 Mask의 패턴이 얼마나 정확한가의 수치입니다. 정합 값은 작을수록 좋습니다. 3. 처리량 한 시간당 노광 될 수 있는 Wafer의 개수입니다. 처리량은 높을수록 좋습니다. 해상도 개선 방법 해상도의 식은 다음과 같습니다. 레일레이 공식이죠. λ가 작아지거나, NA가 커질수록 해상도가 좋아집니다. NA를 키우는 것 보다 노광 광원의 단 파장화가 매우 중요합니다. NA를 키우는 것은 '댓가'가 있기 때문입.. 2022. 11. 24. 3. 포토 공정) 반도체 포토 공정 (feat. ASML, Soft bake의 온도) Intro Q. Photo 공정 쪽으로 입사하고 싶다고 하셨는데요, Photo 공정은 Clean room에서 진행이 됩니다. 혹시 왜 그런지 아는 대로 말씀해주세요. A.? Q. Photo 공정이 뭐인지 간단히 말씀해 주세요. A. 어.. -탈락- 바쁘신 현대인들을 위해 Photo 공정에 대해서 간략하게 설명해 드리고 넘어가겠습니다. 한 반도체를 만들 때 20회 이상의 포토 공정이 진행될 만큼 매우 중요합니다. Photo 공정이란, Mask 상에 형성되어 있는 패턴에 빛을 쏘아서 Si에 전사하는 과정입니다. 특정 부분은 없애고 특정 부분은 남기죠. 없앨 부분은 빛으로 쪼아 녹게 만들고, 남기고 싶은 부분은 PR, Hard Mask로 덮어 빛의 영향을 받지 않게 합니다. PR의 종류는 Positive PR.. 2022. 10. 13. 이전 1 다음 반응형
